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拋光雙面機設備應用范圍領域及特點

拋光雙面機可對各類半導體材料、半導體硅片、晶體材料、陶瓷、磁性材料、硬質合金、不銹鋼、藍寶石、光學玻璃、金屬材料及其它硬脆材料等實現穩定的高精度雙面拋光加工。

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拋光雙面機主要特點

1、拋光雙面機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內齒圈；PLC調整設定控制；彩色NT顯示的人機界面系統。

2、 平面拋光機是龍門箱形結構，配置大功率減速系統，軟啟動、軟停止，運轉平穩，拋光時間根據計時器可隨意設定，采用了自動供給拋光液裝置。

3、 與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處理。

4、 通過精密稱重傳感器與高精密的氣動控制系統聯合實現了壓力閉環反饋控制，確保了工件壓力的準確性。

5、 拋光雙面機主要運動副采用了強制集中潤滑。

6、 雙面拋光機的拋光液系統具有獨立攪拌、循環水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配制做。

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